一、项目名称
中国科学院微电子研究所65nm NOR Flash掩膜加工单一来源服务
二、单一来源采购理由说明
中国科学院微电子研究所 “低维信息器件”项目旨在解决65nm NOR Flash存储器的关键技术，推动核心芯片的实用化。由于芯片采用数字、模拟、高压混合工艺，同时集成SPI数据接口，电路工作速度快，可靠性要求高，对于晶体管匹配度、模型准确性都提出了更高要求，同时要求代工平台工艺稳定。
上海华力微电子有限公司的65nm ETOX工艺属于十分成熟的工艺，已经成功量产20多款产品，为近10家客户提供整套29层FLASH掩膜制版加工服务，掩膜版最小工艺尺寸达到65纳米要求，在性能和质量上均能满足项目要求。由于Flash工艺的定制化要求，掩模板必须与加工工艺流程及相应的层次逻辑运算规则相匹配，因此需要基于上海华力微电子有限公司平台完成掩模版加工。
综上，按照项目任务书需求，目前满足科研需求的厂家仅有上海华力微电子有限公司1家，因此采用单一来源方式采购产品。
三、该项目拟从上海华力微电子有限公司进行采购。
四、征求意见期限从2019年1月22日至2019年1月28日止。
本项目公示期为2019年1月22日至2019年1月28日和个人如对公示内容有异议，请在2019年1月28日15:00（北京时间）之前以实名书面（包括联系人、地址、联系电话）形式反馈至中国科学院微电子研究所，地址：北京朝阳区北土城西路3号，邮编：100029，联系电话：82995706。
中国科学院微电子研究所
2019.01.22
综合信息