一、项目名称
中国科学院微电子研究所40nm 掩膜版加工单一来源服务
二、单一来源采购理由说明
中国科学院微电子研究所承担的院课题先导B项目旨在基于小尺寸工艺节点开展存算一体关键电路技术研究，推动存算一体核心芯片的实用化。由于存算一体芯片采用数字、模拟、高压混合工艺，电路工作速度快，可靠性要求高，对于晶体管匹配度、模型准确性都提出了更高要求，同时要求工艺稳定。
上海华力微电子有限公司的40nm 工艺目前已经为客户成功量产多款产品，并可提供整套掩膜数据生成和制版加工服务。基于上海华力微电子有限公司工艺平台，在性能和质量上均能满足本项目的开发需要。由于工艺的定制化要求，掩膜版必须与上海华力微电子有限公司的工艺流程（process flow）及相应的层次逻辑运算规则（layer operation table）相匹配，因此需要由上海华力微电子有限公司完成掩膜版加工。
综上，按照项目任务书需求，目前在工艺节点和存算阵列集成规模方面能同时满足中国科学院微电子研究所需求的厂家仅有上海华力微电子有限公司1家，因此采用单一来源方式进行采购。
三、该项目拟从上海华力微电子有限公司进行采购。
四、征求意见期限从2019年12月16日至2019年12 月20日止。
本项目公示期为2019年 12月16日至2019年12 月20 日和个人如对公示内容有异议，请在2019年12 月 20 日15:00（北京时间）之前以实名书面（包括联系人、地址、联系电话）形式反馈至中国科学院微电子研究所，地址：北京朝阳区北土城西路3号，邮编：100029，联系电话：82995706。
中国科学院微电子研究所
2019.12.16
综合信息