《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，ISSN：2578-3769）旨在发表集成电路制造领域中从基础研究阶段到工业大规模量产阶段的研究成果，目前已被Crossref、DOAJ、CNKI、CSTJ、CAS等数据库收录。JoMM的发表内容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipment 等方面。近期，JoMM出版了第三卷第二期。
本期专题文章如下：
High-Pressure Oxidation on Ge: Improvement of Ge/GeO2Interface and GeO2Bulk Properties
ChoongHyun Lee, 2020 JoMM Volume 3, Issue 2: 20030202
FinFET Performance Enhancement by Source/Drain Cavity Structure Optimization
Man Gu, Wenjun Li, Haiting Wang, Owen Hu. 2020 JoMM Volume 3, Issue 2: 20030201
作为开放阅览电子学术期刊，JoMM致力于实现快速发表，稿件录用后即时上线，可阅览、下载、引用。目前JoMM正在进行2020年征稿，并免版面费，同时也在征集Special Issue的专题（CAD Technologies & Materials），以及欢迎新编委、同行评审专家加入JoMM，详情请查看官网http://www.jommpublish.com/.
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