中国科学院微电子器件与集成技术研发中心（简称重点实验室）是根据国家重大需求、微电子领域前沿研究的发展趋势、科学院信息领域的发展战略布局和微电子所的中长期发展战略需求建设而成。重点实验室聚焦我国微电子产业技术发展的重大战略需求，面向国际微电子前沿领域，围绕新型微电子器件及集成中的科学问题，以解决信息存储、处理、传输及其能耗等一系列关键科学技术问题为突破口，重点开展新一代微电子器件及其纳米加工和集成技术的基础研究，加强国际国内的开放合作，加强创新能力、前沿技术与知识产权储备，在国际前沿创新群体中占有一席之地，在我国微电子领域的中长期发展中发挥先导性创新核心平台作用。

　　重点实验室具有较先进的纳米加工设备和工艺线，拥有十级到万级超净间5000余平方米，已具备国内一流的纳米加工与研究环境。目前装备有分辨率8nm的JEOL JBX-6300LS电子束光刻系统、分辨率30nm的JEOL JBX-5000LS电子束光刻系统、分辨率350nm的MEBES 4700电子束制版系统、光学制版系统；在软件方面拥有光学临近效应校正软件Caprox，还自行开发了一系列应用于纳米加工图形化工艺的TCAD应用软件，建立了国内最早的NGL掩模研制点。同时装备有电子束镀膜系统、高温化学气相沉积PECVD薄膜制备系统、原子层沉积ALD薄膜制备系统、离子束溅射薄膜制备系统、光学曝光机、高密度等离子体ICP刻蚀机等纳米材料加工设备，以及椭偏仪、台阶仪等纳米结构表征设备，和适用于纳米尺度器件及电路结构的电学性能测试系统、快速阵列结构电学性能测试系统以及变温物性测试系统，用于纳米尺度材料、结构、器件和电路制备及表征测试。此外还拥有中国科学院EDA中心（依托于中国科学院微电子研究所）丰富的设计、模拟仿真及其它工具软件支持。

　　重点实验室具有从事纳米加工的丰富经验、技术基础和工艺平台设备支撑能力，在纳米材料制备、纳米结构加工、纳米尺度器件电路制备及性能表征与检测等研究及工艺开发方向上具备扎实基础。

　　未来，微电子器件与集成技术研发中心将充分发挥上述学科优势，建立面向全国的微电子技术研发的开放性平台，为产业界提供代表性的产品，技术方案和自有的知识产权，和新设备与材料的工艺开发和验证的相关服务。同时带动多学科领域的发展，造就一支国际水平的创新团队，为我国相关领域的可持续发展和创新跨越奠定基础。