论文题目 | 作者 | 刊物名称 | 发表年度 |
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GaAs基E/D PHEMT技术单片集成微波开关及其逻辑控制电路 | 黎明,张海英,徐静波,付晓君; | 《半导体学报》 | 2008 |
T形栅In0.52Al0.48 As/In0.6Ga0.4As MHEMTs功率器件 | 黎明,张海英,徐静波,付晓君; | 《半导体学报》 | 2008 |
增强型InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT栅退火工艺 | 黎明,张海英,徐静波,李潇,刘亮,付晓君; | 《半导体学报》 | 2008 |
200nm栅长In0.52Al0.48As/In0.6Ga0.4As MHEMTs器件 | 黎明,张海英,徐静波,付晓君; | 《半导体学报》 | 2008 |
碳致深能级引起的AlGaN/GaN HEMT电流崩塌现象 | 庞磊,李诚瞻,王冬冬,黄俊,曾轩,刘新宇,刘键,郑英奎,和致经; | 《半导体学报》 | 2008 |
一种改进了碰撞电离的超高速InP基SHBT SDD模型 | 葛霁,金智,刘新宇,程伟,王显泰,陈高鹏,吴德馨; | 《半导体学报》 | 2008 |
考虑载流子速度和耗尽层宽度随电压变化的VBIC模型 | 葛霁,金智,刘新宇,程伟,王显泰,陈高鹏,吴德馨; | 《半导体学报》 | 2008 |
200 nm gate-length GaAs-based MHEMT devices by electron beam lithography | XU JingBo, ZHANG HaiYing, WANG WenXin, LIU Liang, LI Ming, FU XiaoJun, NIU JieBin ,YE TianChun; | Chinese Science Bulletin | 2008 |
利用电子束光刻技术实现200nm栅长GaAs基MHEMT器件 | 徐静波,张海英,王文新,刘亮,黎明,付晓君,牛洁斌,叶甜春; | 《科学通报》 | 2008 |
钝化前表面预处理对AlGaN/GaN HEMTs性能的影响 | 李诚瞻,刘丹,郑英奎,刘新宇,刘键,魏珂,和致经; | 《半导体学报》 | 2008 |
应用于AlGaN/GaN HEMTs MMIC薄膜电阻的特性与可靠性 | 姚小江,蒲颜,刘新宇,吴伟超; | 《半导体学报》 | 2008 |
8GHz带有RC稳定网络的AlGaN/GaN HEMTs内匹配功率合成放大器的设计 | 曾轩,陈晓娟,刘果果,袁婷婷,陈中子,张辉,王亮,李诚瞻,庞磊,刘新宇,刘键; | 《半导体学报》 | 2008 |
空间功率合成模块中鳍状天线阵的分析和设计 | 武锦,欧阳思华,阎跃鹏,刘新宇; | 《红外与毫米波学报》 | 2008 |
截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管 | 金智,程伟,刘新宇,徐安怀,齐鸣; | 《半导体学报》 | 2008 |
InGaAs/InP DHBT的基极-集电极设计 | 金智,刘新宇; | 中国科学E辑 | 2008 |
科研产出